|
کلمات کلیدی
|
|
|
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 642
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dichloroacetic acid [79-43-6] (2002
TWA: 0.5 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A3
MW: 128.95
TLV® Basis: URT & eye irr; testicular dam
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید دی کلرواستیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A3
MW، وزن ملکولی: 128.95
TLV®
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 773
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: 2,2-Dichloropropionic acid [75-99-0] (1997
(TWA: 5 mg/m3 (I
STEL: Non
Notations: A4
MW: 143.00
TLV® Basis: Eye & URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: 2و2 -دی کلرو پروپانیک اسید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (5mg/m3(I
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 143.00
TLV® Basis
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 672
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: 2-Ethylhexanoic acid [149-57-5] (2006
(TWA: 5 mg/m3 (IFV
STEL: Non
Notations: Non
MW: 144.24
TLV® Basis: Teratogenic eff
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: 2 -اتیل هگزانوییک اسید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (5mg/m3(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 144.24
TLV® Basis،
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 755
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Methacrylic acid [79-41-4] (1992
TWA: 20 ppm
STEL: Non
Notations: Non
MW: 86.09
TLV® Basis: Skin & eye irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید مت آکریلیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 20ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 86.09
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مواجهه: تحریک
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 818
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Monochloroacetic acid [79-11-8] (2005
(TWA: 0.5 ppm(IFV
STEL: Non
Notations: Skin; A4
MW: 94.50
TLV® Basis: URT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید مونو کلرو استیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (0.5mg/m3(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A4
MW، وزن ملکولی: 94.50
TLV® Basis، مبنای تعیین
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 789
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Nitric acid [7697-37-2] (1992
TWA: 2 ppm
STEL: 4 ppm
Notations: Non
MW: 63.02
TLV® Basis: URT & eye irr; dental erosion
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید نیتریک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 2ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 4ppm
Notations، نمادها: ندارد
MW، وزن ملکولی: 63.02
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز م
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1279
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Oxalic acid, anhydrous [144-62-7] and dihydrate [6153-56-6] (2014
TWA: 1 mg/m3
STEL: 2 mg/m3
Notations: Non
MW: 90.04 (anhy)126.00 (dihy
TLV® Basis: URT, eye, & skin irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید اگزالیک، بی آب و دی هیدرات
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 1mg/m2
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 2mg/m2
Notations، ن
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 628
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Peracetic acid [79-21-0] (2013
TWA: Non
STEL: 0.4 ppm(IFV
Notations: A4
MW: 76.05
TLV® Basis: URT, eye, & skin irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: پراستیک اسید
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: ندارد
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: (0.4ppm(IFV
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 76.05
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 689
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Phosphoric acid [7664-38-2] (1992
TWA: 1 mg/m3
STEL: 3 mg/m3
Notations: A4
MW: 98.00
TLV® Basis: URT, eye, & skin irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید فسفریک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 1mg/m3
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 3mg/m3
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 98.00
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مو
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 686
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Picric acid [88-89-1] (1992
TWA: 0.1 mg/m3
STEL: Non
Notations: Non
MW: 229.11
TLV® Basis: Skin sens; dermatitis; eye irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید پیکریک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.1mg/m3
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: ندارد
MW، وزن ملکولی: 229.11
TLV® Basis، مبنای تعیین آستان
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 736
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Sulfuric acid [7664-93-9] (2000
(TWA: 0.2 mg/m3 (T
STEL: Non
(Notations: A2 (M
MW: 98.08
TLV® Basis: Pulm func
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید سولفوریک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (0.2mg/m3(T
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: (A2 (M
MW، وزن ملکولی: 98.08
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز م
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1090
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: 2,4,5-T [93-76-5] (1992
TWA: 10 mg/m3
STEL: Non
Notations: A4
MW: 255.49
TLV® Basis: PNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: 2و4و5 -تری کلروفنوکسی(2,4,5-T) اسید استیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 10mg/m3
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 255.49
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه م
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 801
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Terephthalic acid [100-21-0] (1990
TWA: 10 mg/m3
STEL: Non
Notations: Non
MW: 166.13
TLV® Basis: Non
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید ترفتالیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 10mg/m3
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: ندارد
MW، وزن ملکولی: 166.13
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مواجهه: ندارد
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1104
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Thioglycolic acid [68-11-1] and salts (2017
TWA: 1 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; DSEN
MW: 92.12
TLV® Basis: Eye & resp ir
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید تیوگلیکولیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 1ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: پوست; DSEN
MW، وزن ملکولی: 92.12
TLV® Basis، مبنای تعیین آ
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1063
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Trichloroacetic acid [76-03-9] (2013
TWA: 0.5 ppm
STEL: Non
Notations: A3
MW: 163.39
TLV® Basis: Eye & URT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اسید تری کلرو استیک
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: A3
MW، وزن ملکولی: 163.39
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مو
|
