|
کلمات کلیدی
|
|
|
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1138
پروپیلن گلیکول دی نیترات Propylene glycol dinitrate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Propylene glycol dinitrate [6423-43-4] (1980
TWA: 0.05 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; BEI_M
MW: 166.09
TLV® Basis: Headache; CNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: پروپیلن گلیکول دی نیترات
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.05ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: پوست; BEI_M
MW، وزن ملکولی: 166.09
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 891
اتیلن دی بروماید Ethylene dibromide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Ethylene dibromide [106-93-4] (1980
TWA: Non
STEL: Non
Notations: Skin; A3
MW: 187.88
TLV® Basis: Non
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اتیلن دی بروماید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: Non
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A3
MW، وزن ملکولی: 187.88
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز موا
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1012
دی اتیل گالیکول مونوبوتیل اتر Diethylene glycol monobutyl ether
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Diethylene glycol monobutyl ether [112-34-5] (2012
(TWA: 10 ppm(IFV
STEL: Non
Notations: Non
MW: 162.23
TLV® Basis: Hematologic, liver & kidney eff
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی اتیل گالیکول مونوبوتیل اتر
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (10ppm(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 794
هگزا متیلن دی ایزوسیانات Hexamethylene diisocyanate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Hexamethylene diisocyanate [822-06-0] (1985
TWA: 0.005 ppm
STEL: Non
Notations: Non
MW: 168.22
TLV® Basis: URT irr; resp sens
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: هگزا متیلن دی ایزوسیانات
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.005ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 168.22
TLV® Ba
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 765
دی بوتیل فسفات Dibutyl phosphate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dibutyl phosphate [107-66-4] (2008
(TWA: 5 mg/m3 (IFV
STEL: Non
Notations: Skin
MW: 210.21
TLV® Basis: Bladder, eye, & URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی بوتیل فسفات
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (5mg/m3(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست
MW، وزن ملکولی: 210.21
TLV® Basis،
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 824
دی اکسید سولفور Sulfur dioxide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Sulfur dioxide [7446-09-5] (2008
TWA: 0.25 ppm
STEL: Non
Notations: A4
MW: 64.07
TLV® Basis: Pulm func; LRT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی اکسید سولفور
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.25ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: ندارد
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 64.07
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مواجهه:
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 846
دی کلرو تترا فلوئورو اتان Dichlorotetrafluoroethane
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dichlorotetrafluoroethane [76-14-2] (1979
TWA: 1000ppm
STEL: Non
Notations: A4
MW: 170.93
TLV® Basis: Pulm func
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی کلرو تترا فلوئورو اتان
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 1000ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: A4
MW، وزن ملکولی: 170.93
TLV® Basis، مبنای تعیی
|
نویسنده: sir1 - پاسخها: 0 - بازدیدها: 3415
سم شناسی دی سولفید کربن(cs2)
|
سم شناسی دی سولفید کربن(cs2)
منابع مورد استفاده:سلام دوستان
ممنون از سایت خوبتون
در مورد سم شناسی دی سولفید کربن یه سری مطلب میخواستم در صورتی که کسی مطالبی در این باره داره ممنون میشم که در این تایپیک بزارد
از جمله
1-اثرات فیزیولوژی( حاد و مزمن)
2- مکانیسم عمل
3-متابولیسم
4-کنترل
5- درمان
6- کاربردهای صنعتی و کلینیکی
و ....
با تشکر
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1309
دی کلرومتان
|
|
دی کلرومتان dichloromethane
فرمول شیمیایی: CH2Cl2
وزن مولکولی: 84.94 CAS : 75-09-2
RTECS : PA8050000
اسامی مترادف: متیلن کلراید؛ متیلن دی کلراید
وع فایل: Word
تعداد صفحات:3
منبع: NIOSH Method
[attachment=1144]
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 621
دی اکساتیون Dioxathion
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dioxathion [78-34-2] (2001
(TWA: 0.1 mg/m3 (IFV
STEL: Non
Notations: Skin; A4; BEI_A
MW: 456.54
TLV® Basis: Cholinesterase inhib
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی اکساتیون
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (0.1mg/m3(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A4; BEI_A
MW، وزن ملکولی: 456.54
|