|
کلمات کلیدی
|
|
|
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1441
متیل سیاناید
|
|
متیل سیاناید methyl cyanide
فرمول شیمیایی: CH3CN
وزن مولکولی: 41.06
CAS : 75-05-8
RTECS : AL7700000
اسامی مترادف: استونیتریل ؛ سیانو متان؛ ACN
نوع فایل: Word
تعداد صفحات:3
منبع: NIOSH Method
[attachment=1023]
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1353
متیل سولفیدرات
|
|
متیل سولفیدرات methyl sulfhydrate
فرمول شیمیایی: CH3SH
وزن مولکولی: 48.11
CAS : 64-93-1
RTECS : PB4375000
اسامی مترادف: متان اتیول؛ مرکاپتومتان؛ متیل مرکاپتان
نوع فایل: Word
تعداد صفحات:3
منبع: NIOSH Method
[attachment=1022]
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1101
n-متیل متانامین
|
|
n-متیل متانامین N-methylmethanamine
فرمول شیمیایی:
وزن مولکولی: 45.08
CAS : 124-40-3
RTECS : IP8750000
اسامی مترادف: دی متیل آمین؛ DMA
نوع فایل: Word
تعداد صفحات:3
منبع: NIOSH Method
[attachment=1026]
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 5799
جیوه چیست ؟
|
|
جیوه چیست ؟
وقتی جیوه وارد محیط می گردد چه اتفاقی برای آن می افتد ؟
چگونه ممکن است که در معرض جیوه قرار بگیریم ؟
چگونه جیوه روی سلامتی تأثیر می گذارد ؟
آیا جیوه یک ماده سرطانزا می باشد ؟
و به ده های سوال دیگر شما پاسخ می دهد
مترجم : سعید اسداللهی
کارشناس بهداشت حرفه ای
با تشکر و قدردانی
در این مقاله به متداولترین سوالاتی که در مورد مسایل بهداشتی جیوه می باشد پاسخ داده شده است.برای دریافت اطلاعات بیشتر می توان با مرکز اطلاعات ATSDR توسط 1-888-422-8737 تماس گرفت. این اوراق
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1141
ترت- آمیل متیل اتر tert-Amyl methyl ether
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: tert-Amyl methyl ether [994-05-8] (2002
TWA: 20 ppm
STEL: Non
Notations: Non
MW: 102.20
TLV® Basis: CNS impair; embryo/fetal dam
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: ترت- آمیل متیل اتر
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 20ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 102.20
TLV® Basis،
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 717
متیل آزینفوس Azinphos methyl
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Azinphos-methyl [86-50-0] (2014
(TWA: 0.2 mg/m3 (IFV
STEL: Non
Notations: Skin; DSEN; A4; BEIc
MW: 317.34
TLV® Basis: Cholinesterase inhib
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: متیل آزینفوس
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (0.2mg/m3(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; حساسیت ; A4; BEIc
MW،
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 978
بیس (کلرو متیل) اتر bis(Chloromethyl) ether
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: bis(Chloromethyl) ether [542-88-1] (1979
TWA: 0.001 ppm
STEL: Non
Notations: A1
MW: 114.96
TLV® Basis: Lung cancer
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بیس (کلرو متیل) اتر
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.001ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: A1
MW، وزن ملکولی: 114.96
TLV® Basis، مبنای تعیی
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 920
کلرو متیل متیل اتر Chloromethyl methyl ether
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Chloromethyl methyl ether [107-30-2] (1979
(TWA: -(L
STEL: Non
Notations: A2
MW: 80.50
TLV® Basis: Lung cancer
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: کلرو متیل متیل اتر
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (Non(L
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: -
Notations، نمادها: A2
MW، وزن ملکولی: 80.50
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه م
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 812
دمتون –اس- متیل Demeton-S-methyl
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Demeton-S-methyl [919-86-8] (1998
(TWA: 0.05 mg/m3 (IFV
STEL: Non
Notations: Skin; DSEN; A4; BEI_A
MW: 230.30
TLV® Basis: Cholinesterase inhib
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دمتون –اس- متیل
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (0.05mg/m3(IFV
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; حساسیت; A4; BEI
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 789
1و3 -دی کلرو- 5 و 5 -دی متیل هیدانتوئین 1,3-Dichloro-5,5-dimethylhydantoin
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: 1,3-Dichloro-5,5-dimethylhydantoin [118-52-5] (1979
TWA: 0.2 mg/m3
STEL: 0.4 mg/m3
Notations: Non
MW: 197.03
TLV® Basis: URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: 1و3 -دی کلرو- 5 و 5 -دی متیل هیدانتوئین
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.2mg/m3
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 0.4mg/m3
Notations، نمادها: Non
MW، وز
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 923
ان؛ ان - دی متیل استامید N,N-Dimethylacetamide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: ‡ N,N-Dimethylacetamide [127-19-5] (1990
TWA: 10 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A4; BEI
MW: 87.12
TLV® Basis: Liver & embryo/fetal dam
(BIOLOGICAL EXPOSURE DETERMINANTS N,N-DIMETHYLACETAMIDE [127-19-5] (1993
Determinant: N-Methylacetamide in urine
[align=left]Sampling Time: End of shi
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 713
دی متیل آمین Dimethylamine
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethylamine [124-40-3] (2013
TWA: 5 ppm
STEL: 15 ppm
Notations: DSEN; A4
MW: 45.08
TLV® Basis: URT & GI irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل آمین
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 15ppm
Notations، نمادها: DSEN; A4
MW، وزن ملکولی: 45.08
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه م
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1107
بیس (2-دی متیل آمین و اتیل) اتر bis(2-Dimethylaminoethyl) ether
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: bis(2-Dimethylaminoethyl) ether [3033-62-3] (1997
TWA: 0.05 ppm
STEL: 0.15 ppm
Notations: Skin
MW: 160.26
TLV® Basis: URT, eye, & skin irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بیس (2-دی متیل آمین و اتیل) اتر
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.05ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 0.15ppm
Notations، نمادها: پوست
MW، وزن
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 570
دی متیل آنیلین Dimethylaniline
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethylaniline [121-69-7] (1990
TWA: 5 ppm
STEL: 10 ppm
Notations: Skin; A4; BEIM
MW: 121.18
TLV® Basis: MeHb-emia
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل آنیلین
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 10ppm
Notations، نمادها: پوست; A4; BEIM
MW، وزن ملکولی: 121.18
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 679
دی متیل کاربامیل کلراید Dimethyl carbamoyl chloride
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethyl carbamoyl chloride [79-44-7] (2006
TWA: 0.005 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A2
MW: 107.54
TLV® Basis: Nasal cancer; URT irr
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل کاربامیل کلراید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.005ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A2
MW، وزن ملکولی: 107.54
TLV® Bas
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 666
دی متیل دی سولفید Dimethyl disulfide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethyl disulfide [624-92-0] (2006
TWA: 0.5 ppm
STEL: Non
Notations: Skin
MW: 94.20
TLV® Basis: URT irr; CNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل دی سولفید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست
MW، وزن ملکولی: 94.20
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مو
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 632
دی متیل اتوکسی سیلان Dimethylethoxysilane
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethylethoxysilane [14857-34-2] (1991
TWA: 0.5 ppm
STEL: 1.5 ppm
Notations: Non
MW: 104.20
TLV® Basis: URT & eye irr; headache
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل اتوکسی سیلان
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 1.5ppm
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 104.20
TLV® B
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 673
دی متیل فرمامید Dimethylformamide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: ‡ Dimethylformamide [68-12-2] (1995
TWA: 10 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A4; BEI
MW: 73.09
TLV® Basis: Liver dam
[align=left] (BIOLOGICAL EXPOSURE DETERMINANTS * N,N-DIMETHYLFORMAMIDE [68-12-2] (2016
** Determinant: Total N-Methylformamide in urine
Sampling Time: End of shift
BEI®: 30 mg/L
Notation: Non
D[b]etermi
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 646
1و1 -دی متیل هیدرازین 1,1-Dimethylhydrazine
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: 1,1-Dimethylhydrazine [57-14-7] (1993
TWA: 0.01 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A3
MW: 60.12
TLV® Basis: URT irr; nasal cancer
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: 1و1 -دی متیل هیدرازین
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.01ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A3
MW، وزن ملکولی: 60.12
TLV® Ba
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 714
دی متیل فتالات Dimethyl phthalate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethyl phthalate [131-11-3] (2005
TWA: 5 mg/m3
STEL: Non
Notations: Non
MW: 194.19
TLV® Basis: Eye & URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل فتالات
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 5mg/m3
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 194.19
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجا
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 726
دی متیل سولفات Dimethyl sulfate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethyl sulfate [77-78-1] (1985
TWA: 0.1 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; A3
MW: 126.10
TLV® Basis: Eye & skin irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل سولفات
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی:0.1ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A3
MW، وزن ملکولی: 126.10
TLV® Basis، مبنای تعیین آست
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 712
دی متیل سولفید Dimethyl sulfide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Dimethyl sulfide [75-18-3] (2001
TWA: 10 ppm
STEL: Non
Notations: Non
MW: 62.14
TLV® Basis: URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: دی متیل سولفید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 10ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 62.14
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مواجهه: تحر
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 665
هگزا متیل فسفرآمید Hexamethyl phosphoramide
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Hexamethyl phosphoramide [680-31-9] (1990
TWA: Non
STEL: Non
Notations: Skin; A3
MW: 179.20
TLV® Basis: URT cancer
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: هگزا متیل فسفرآمید
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: Non
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; A3
MW، وزن ملکولی: 179.20
TLV® Basis، مبنای تعیین
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 836
2 -متوکسی متیل اتوکسی( پروپانول) (Methoxymethylethoxy (propanol
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: (2-Methoxymethylethoxy)propanol [34590-94-8] (1979
TWA: 100 ppm
STEL: 150 ppm
Notations: Skin
MW: 148.20
TLV® Basis: Skin Eye & URT irr; CNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: 2 -متوکسی متیل اتوکسی( پروپانول)
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 100ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 150ppm
Notations، نمادها: پوست
MW، وزن م
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 735
متیل استات Methyl acetate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Methyl acetate [79-20-9] (2012
TWA: 200 ppm
STEL: 250 ppm
Notations: Non
MW: 74.08
(TLV® Basis: Headache; dizziness; nausea; eye dam (degeneration of ganglion cells in the retina
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: متیل استات
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 200ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 2500
Notations، نمادها: Non
MW،
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 685
متیل استیلن Methylacetylene
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: * Methylacetylene [74-99-7] (1956
(TWA: 1000 ppm (EX
STEL: Non
Notations: Non
MW: 40.07
TLV® Basis: CNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: متیل استیلن
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (1000ppm(EX
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 40.07
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مجاز مواجهه:
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 973
مخلوط متیل استیلن پروپادین Methylacetylene-propadiene mixture
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: * Methylacetylene-propadiene mixture [56960-91-9] (1964
(TWA: 1000 ppm (EX
(STEL: 1250 ppm (EX
Notations: Non
MW: 40.07
TLV® Basis: CNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: مخلوط متیل استیلن پروپادین
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: (1000ppm(EX
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: (1250ppm(EX
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکول
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 699
متیل آکریالت Methyl acrylate
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Methyl acrylate [96-33-3] (1997
TWA: 2 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; DSEN; A4
MW: 86.09
TLV® Basis: Eye, skin, & URT irr; eye dam
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: متیل آکریالت
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 2ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; حساسیت; A4
MW، وزن ملکولی: 86.09
TLV® Basis، مبنای
|