|
کلمات کلیدی
|
|
|
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 860
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: n-Butylamine [109-73-9] (1985
TWA: Non
STEL: C 5 ppm
Notations: Skin
MW: 73.14
TLV® Basis: Headache; URT & eye irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بوتیل آمین نرمال
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: Non
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: C5ppm
Notations، نمادها: پوست
MW، وزن ملکولی: 73.14
TLV® Basis، مبنای تعیین آ
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1222
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: n-Butyl glycidyl ether [2426-08-6] (2014
TWA: 3 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; DSEN
MW: 130.21
TLV® Basis: Reproduction; sens
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بوتیل گلیسیدیل اتر نرمال
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 3ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست ; حساسیت
MW، وزن ملکولی: 130.21
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 909
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: n-Butyl lactate [138-22-7] (1976
TWA: 5 ppm
STEL: Non
Notations: Non
MW: 146.19
TLV® Basis: Headache; URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بوتیل لاکتات نرمال
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 146.19
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 944
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: n-Butyl mercaptan [109-79-5] (1970
TWA: 0.5 ppm
STEL: Non
Notations: Non
MW: 90.19
TLV® Basis: URT irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بوتیل مرکاپتان نرمال
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: Non
MW، وزن ملکولی: 790.19
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه مج
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 740
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: N-Ethylmorpholine [100-74-3] (1985
TWA: 5 ppm
STEL: Non
Notations: Skin
MW: 115.18
TLV® Basis: URT irr; eye dam
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: اتیل مورفولین نرمال
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست
MW، وزن ملکولی: 115.18
TLV® Basis، مبنای تعیین آستان
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 627
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: n-Hexane [110-54-3] (1996
TWA: 50 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; BEI
MW: 86.18
TLV® Basis: CNS impair; peripheral neuropathy; eye irr
[align=left] (BIOLOGICAL EXPOSURE DETERMINANTS n-HEXANE [110-54-3] (2002
**Determinant: 2,5-Hexanedione in urine
Sampling Time: End of shift at end of workweek
BEI®: 0.4 mg/L
Notation: Non[/
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 1167
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: Hexane isomers, other than n-Hexane [75-83-2; 79-29-8; 96-14-0; 107-83-5] (1979
TWA: 500 ppm
STEL: 1000 ppm
Notations: Non
MW: 86.17
TLV® Basis: CNS impair; URT & eye irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: کلیه ایزومرهای هگزان بجز هگزان نرمال
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 500ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: 1000p
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 856
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: N-Isopropylaniline [768-52-5] (1990
TWA: 5 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; BEI_M
MW: 135.21
TLV® Basis: MeHb-emia
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: ایزوپروپیل آنیلین نرمال
WA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; BEI_M
MW، وزن ملکولی: 135.21
TLV® Basis، مبنای تعیین آستان
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 836
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: N-Methylaniline [100-61-8] (1992
TWA: 0.5 ppm
STEL: Non
Notations: Skin; BEI_M
MW: 107.15
TLV® Basis: MeHb-emia; CNS impair
Substance، نام علمی ماده شیمیایی: متیل آنیلین نرمال
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 0.5ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: پوست; BEI_M
MW، وزن ملکولی: 107.15
TLV® Basis، مبنای تعی
|
نویسنده: masoomi - پاسخها: 0 - بازدیدها: 836
|
(Substance [CAS No.]Documentation date: n-Butyl acrylate [141-32-2] (2014
TWA: 2 ppm
STEL: Non
Notations: DSEN; A4
MW: 128.17
TLV® Basis: Irr
[align=right]Substance، نام علمی ماده شیمیایی: بوتیل آکریالت نرمال
TWA، آستانه مجاز مواجهه شغلی: 2ppm
STEL، آستانه مجاز مواجهه کوتاه مدت: Non
Notations، نمادها: حساسیت; A4
MW، وزن ملکولی: 128.17
TLV® Basis، مبنای تعیین آستانه
|
